第924章 光刻机大突破
“今天，我们正式向大家宣布，困扰了业界十多年时间的光刻机之壁，正式被我们AMSL公司破除了。从现在开始，70nm的制程就不再将是光刻机的极限，我们即将进入个位数的光刻机新时代！”此时此刻，面对着台下数以百计的记者,AMSL公司的负责人，用无比激动的声音说道。
2005年7月1号，这一天对于AMSL公司来说，绝对是最值得历史铭记的一天，因为在这一天，AMSL正式召开了新闻发布会，向全球发布了自家公司生产的新品，也是全新的XT系列的第一台产品XT:1700i。
在舞台上上面，这位负责人激情澎湃的向查一下所有观众说明这台设备的数据,而记者们也丝毫不吝啬自己的胶卷，纷纷记录下这令人激动的历史一刻。
不过台下比记者更多的其实是各家科技企业的代表们，他们的表情或激动或深沉或有些玩味，不过他们都明白，恐怕整个光刻机市场要就此改写了。
之前说过，从90年代中期开始，光刻机的发展就基本上陷入了停滞状态。因为光源技术的限制，导致人类始终无法生产70纳米制成以下的光刻机，也就无法制作相应的芯片。
芯片之所以拥有恐怖的运算能力，其实就是先在单晶硅上面裹一圈绝缘层，然后再用极细的光线烧掉覆盖下的绝缘层。
就好像把光线变成了笔，直接在单晶硅上面画下了一个又一個的半导体，最终形成了一枚拥有恐怖运算能力的计算机芯片。
在最初的时候,人类画的线是用手画的,细度是毫米级别的，所以一个单晶硅芯片上面只能画几个半导体。
后来变成了经过了精度加工的金属模具来压,但这样线的细度也不过是0.1毫米级别的,顶多只能够画几百上千个半导体而已。
直到有人发现了，可以利用光线在单晶硅上面刻画，于是第1台能够光刻机诞生了，但只能够刻画0.01毫米，也就是10微米左右的线条，在一片单晶硅上面也就是上万个半导体而已。
不过在人类不断的突破下，不断的更换光源和镜头，将光线也变得越来越细，最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了。能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体。
但这也顶天了，到90年代中期，人类就发现不管是镜头还是光源，人类都已经突破到极致了。除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源，或者干脆换掉光，用另外一种方式来刻画，否则这就是一个无法突破的死穴。
但10多年的时间，没有任何一家企业能够做到这一点，而光刻机的发展限制，也就导致了芯片制作精度被限制住了,所以这10多年的时间里面，计算机芯片本身的硬件技术是没有什么发展的。www.biqugee6.com
但相应的软件技术,也就是芯片架构发展很快,好歹让计算机芯片没有出现那种无法迭代的状况，可这终究无法改变硬件上的限制，从03年左右开始，计算机芯片的发展基本上就陷入了极为缓慢的状态。
就拿英